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氧离子束辅助激光淀积生长ZnO/Si的研究

李庚伟 , 吴正龙 , 邵素珍 , 张建辉 , 刘志凯

材料导报

利用X射线衍射(XRD),X射线摇摆曲线(XRC)和X射线光电子能谱(XPS)分析方法对氧离子束辅助激光淀积生长的ZnO/Si异质结薄膜进行了分析.结果表明:用该法可生长出高度c轴单一取向ZnO薄膜,XRC的半高宽度(FWHM)仅为2.918°.表明此生长方法经优化,可生长出单晶质量很好的ZnO/Si薄膜.

关键词: ZnO/Si异质结构 氧离子束辅助PLD X射线衍射 X射线摇摆曲线分析 X射线光电子能谱 半高宽度c轴单一取向